① 결정의 기초 ... 15 1-1 구조의 분류 ... 15 1-2 공간 격자 ... 15 1-3 결정 구조 ... 18 1-4 결정 구조의 해석 ... 20 1-5 결정의 불 완전성 ... 22 ② 격자의 열 진동 ... 31 2-1 음파의 진동 ... 31 2-2 한 종류의 원자로 이루어진 격자의 진동 ... 34 2-3 두 종류의 원자로 이루어지는 격자의 진동 ... 36 2-4 실제 결정의 진동 ... 40 2-5 격자 진동의 적외선 흡수 ... 41 2-6 격자 진동의 양자화 ... 42 2-7 격자 진동의 열 현상 ... 43 ③ 고체의 band 이론 ... 49 3-1 결정 내의 에너지 상태 ... 49 3-2 Schr<?import namespace ... m ur 3-3 깊은 포텐셜 우물에 갇힌 전자 ... 53 3-4 전자의 상태밀도 ... 56 3-5 주기적 포텐셜안의 전자 ... 59 3-6 결정 내 전자의 운동 ... 65 3-7 반도체의 band 구조 ... 67 ④ 반도체의 기초 이론 ... 75 4-1 에너지 band의 개념 ... 75 4-2 Fermi-Dirac 분포함수 ... 77 4-3 진성 반도체 ... 79 4-4 불순물 반도체 ... 83 4-5 반도체의 전기전도 ... 89 4-6 반도체에서의 캐리어 재결합 ... 94 4-7 반도체의 기본 방정식 ... 99 ⑤ 반도체의 접촉과 접합 ... 105 5-1 금속과 반도체의 접촉 ... 105 5-2 반도체의 접합 ... 112 5-3 금속-절연체-반도체의 구조 ... 123 5-4 반도체의 광전 현상과 발광 현상 ... 126 ⑥ Si 반도체와 단체 device ... 135 6-1 결정 성장과 평가 ... 135 6-2 epitaxial 성장 ... 142 6-3 SOI wafer ... 144 6-4 Bipolar device ... 147 6-5 MOS transistor ... 157 6-6 광검지 device ... 162 ⑦ Si device process ... 169 7-1 process기술 ... 169 7-2 산화 ... 170 7-3 확산과 이온 implantation ... 175 7-4 lithography ... 182 7-5 etching ... 184 7-6 CVD와 PVD ... 186 ⑧ 집적 process 기술 ... 193 8-1 bipolar device process ... 193 8-2 n channel MOS device process ... 196 8-3 CMOS device process ... 199 8-4 LSI 기술의 동향 ... 203 ⑨ 광물성과 device ... 211 9-1 광학의 기초 ... 211 9-2 반도체에서의 광 흡수 ... 213 9-3 광전도 효과 ... 216 9-4 광기전력 효과 ... 217 9-5 발광 천이 ... 219 ⑩ Ⅲ-Ⅴ화합물 반도체와 device ... 225 10-1 GaAs 기판의 제조 ... 225 10-2 epitaxiay 성장기술 ... 228 10-3 Ⅲ-Ⅴ족 화합물 반도체의 물성 ... 231 10-4 Ⅲ-Ⅴ화합물 반도체 device ... 232 부록 1 물리상수 ... 241 2 Si, Ge, GaAs 및 InP 반도체의 물성 데이터 ... 241 3 반도체에 쓰이는 주요 원소의 주기율표 ... 242 참고 도서 ... 243 연습문제 해답 ... 244 찾아보기 ... 255 ① 결정의 기초 ... 15 1-1 구조의 분류 ... 15 1-2 공간 격자 ... 15 1-3 결정 구조 ... 18 1-4 결정 구조의 해석 ... 20 1-5 결정의 불 완전성 ... 22 ② 격자의 열 진동 ... 31 2-1 음파의 진동 ... 31 2-2 한 종류의 원자로 이루어진 격자의 진동 ... 34 2-3 두 종류의 원자로 이루어지는 격자의 진동 ... 36 2-4 실제 결정의 진동 ... 40 2-5 격자 진동의 적외선 흡수 ... 41 2-6 격자 진동의 양자화 ... 42 2-7 격자 진동의 열 현상 ... 43 ③ 고체의 band 이론 ... 49 3-1 결정 내의 에너지 상태 ... 49 3-2 Schr<?import namespace ... m ur 3-3 깊은 포텐셜 우물에 갇힌 전자 ... 53 3-4 전자의 상태밀도 ... 56 3-5 주기적 포텐셜안의 전자 ... 59 3-6 결정 내 전자의 운동 ... 65 3-7 반도체의 band 구조 ... 67 ④ 반도체의 기초 이론 ... 75 4-1 에너지 band의 개념 ... 75 4-2 Fermi-Dirac 분포함수 ... 77 4-3 진성 반도체 ... 79 4-4 불순물 반도체 ... 83 4-5 반도체의 전기전도 ... 89 4-6 반도체에서의 캐리어 재결합 ... 94 4-7 반도체의 기본 방정식 ... 99 ⑤ 반도체의 접촉과 접합 ... 105 5-1 금속과 반도체의 접촉 ... 105 5-2 반도체의 접합 ... 112 5-3 금속-절연체-반도체의 구조 ... 123 5-4 반도체의 광전 현상과 발광 현상 ... 126 ⑥ Si 반도체와 단체 device ... 135 6-1 결정 성장과 평가 ... 135 6-2 epitaxial 성장 ... 142 6-3 SOI wafer ... 144 6-4 Bipolar device ... 147 6-5 MOS transistor ... 157 6-6 광검지 device ... 162 ⑦ Si device process ... 169 7-1 process기술 ... 169 7-2 산화 ... 170 7-3 확산과 이온 implantation ... 175 7-4 lithography ... 182 7-5 etching ... 184 7-6 CVD와 PVD ... 186 ⑧ 집적 process 기술 ... 193 8-1 bipolar device process ... 193 8-2 n channel MOS device process ... 196 8-3 CMOS device process ... 199 8-4 LSI 기술의 동향 ... 203 ⑨ 광물성과 device ... 211 9-1 광학의 기초 ... 211 9-2 반도체에서의 광 흡수 ... 213 9-3 광전도 효과 ... 216 9-4 광기전력 효과 ... 217 9-5 발광 천이 ... 219 ⑩ Ⅲ-Ⅴ화합물 반도체와 device ... 225 10-1 GaAs 기판의 제조 ... 225 10-2 epitaxiay 성장기술 ... 228 10-3 Ⅲ-Ⅴ족 화합물 반도체의 물성 ... 231 10-4 Ⅲ-Ⅴ화합물 반도체 device ... 232 부록 1 물리상수 ... 241 2 Si, Ge, GaAs 및 InP 반도체의 물성 데이터 ... 241 3 반도체에 쓰이는 주요 원소의 주기율표 ... 242 참고 도서 ... 243 연습문제 해답 ... 244 찾아보기 ... 255