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기사제목
저 에너지 이온 주입의 개선을 위한 변형된 감속모드 이온 주입의 안정화 특성:
기사저자명
서용진 박창준 김상용
출판사
한국전기전자재료학회
발행년
2003
자료유형
저널기사
2.
기사제목
실리카 연마제가 첨가된 재활용 슬러리를 사용한 2단계 CMP 특성:
기사저자명
서용진 이경진 최운식 김상용 박진성 이우선
출판사
한국전기전자재료학회
발행년
2003
자료유형
저널기사
3.
기사제목
탈이온수로 희석된 실리카 슬러리에 알루미나 연마제가 첨가된 혼합 연마제 슬러리의 CMP 특성:
기사저자명
서용진 박창준 최운식 김상용 박진성 이우선
출판사
한국전기전자재료학회
발행년
2003
자료유형
저널기사
4.
기사제목
Analysis of the defect density according to the slurry filter size in the chemical mechanical polishing process :
기사저자명
서용진 김상용 박진성 이우선
출판사
한국물리학회
발행년
2003
자료유형
저널기사
5.
기사제목
Glbal planarization characteristics of shallow trench isolation-chemical mechanical polishing porcess with and without reverse moat etch step:
기사저자명
서용진 박성우 김철복 김상용 이우선 박진승
출판사
한국물리학회
발행년
2003
자료유형
저널기사
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