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기사제목
The changing behavior of the dielectric constant of a-SiC:H films deposited by remote PECVD with various deposition conditions using HMDS and PPCS:  미리보기
기사저자명
Cho,S.H. Choi,Y.Y. Kim,Y.H. Choi,D. J.
출판사
International Organization for Ceramic Processing
발행년
2010
자료유형
NotFound 저널기사
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