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검색어[전방일치/ 기사제목:Cobalt interlayer와 TiN capping를 갖는 새로운 구조의 Ni-Silicide 및 Nano CMOS에의 응용]
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기사제목
Cobalt interlayer와 TiN capping를 갖는 새로운 구조의 Ni-Silicide 및 Nano CMOS에의 응용:  미리보기
기사저자명
오순영 윤장근 박영호 황빈평 지희완 왕진석 이희덕
출판사
대한전자공학회
발행년
2003
자료유형
NotFound 저널기사
1 
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