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검색어[전방일치/ 기사제목:Improvement of Thermal Stability of Nickel Silicide Using Co-sputtering of Ni and Ti for Nano-Scale CMOS Technology ]
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1.
기사제목
Improvement of Thermal Stability of Ni-Silicide Using Vacuum Annealing on Boron Cluster Implanted Ultra Shallow Source/Drain for Nano-Scale CMOSFETs:  미리보기
기사저자명
신홍식 오세경 강민호 이가원 이히덕
출판사
Institute of Electronics Engineers of Korea
발행년
2010
자료유형
NotFound 저널기사
2.
기사제목
Improvement of Thermal Stability of Nickel Silicide Using Co-sputtering of Ni and Ti for Nano-Scale CMOS Technology :  미리보기
기사저자명
Li,Meng; 오성권 신종식 이히덕
출판사
Institute of Electronics Engineers of Korea
발행년
2013
자료유형
NotFound 저널기사
1 
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