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기사제목
Post-CMP dry etching for the removal of the nanoscale subsurface damage layer from a single crystal La₃Ga5Sio14 for a high quality wide band SAW filter device:  미리보기
기사저자명
LeeD.M. Hwang,S. Lee.B.W. Shim,K.B. Pearton,S.J. Cho,H.
출판사
International Organization for Ceramic Processing
발행년
2007
자료유형
NotFound 저널기사
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