대구한의대학교 향산도서관

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Co-interlayer와 TiN capping을 적용한 니켈실리사이드의 0.1um CMOS소자 특성 연구(574): / 오순영 지희환 배미숙 윤장근 김용구 황빈봉 박영호 왖니석 이희덕 / 대한전자공학회 / 종합학술대회논문집(대한전자공학회) / 2003 /