대구한의대학교 향산도서관

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Cobalt interlayer와 TiN capping를 갖는 새로운 구조의 Ni-Silicide 및 Nano CMOS에의 응용: / 오순영 윤장근 박영호 황빈평 지희완 왕진석 이희덕 / 대한전자공학회 / 전자공학회논문지 - SD / 2003 /