대구한의대학교 향산도서관

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Characteristics of Al₂O₃ Thin Films Deposited Using Dimethylaluminum Isopropoxide and Trimethylaluminum Precursors by the Plasma-Enhanced Atomic-Layer Deposition Method: / 구재형 김석훈 전상민 전형탁 김양도 원영두 / 한국물리학회 / Journal of the Korean Physical Society / 2006 /