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Si(001)기판에서 N2 처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-TiSi2 상의 열적거동과 결정학적 특성에 관한 연구
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| No. | 소장처 | 소장사항 | 청구기호 | 구독 | 최근입수호 | 권호·제본정보 보기 |
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| 1 | 삼성캠퍼스/연속간행물실(2층)/ | 530.405 | 구독중단 | 2011년 02월 제21권 2호 |
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| 1 | 삼성캠퍼스/연속간행물실(2층)/ | 530.405 | 구독중단 | 2011년 02월 제21권 2호 |
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