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열플라즈마 프로세싱에 의한 Si3N4-SiC계 미립자의 입도분포제어

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자료유형기사
기사명열플라즈마 프로세싱에 의한 Si3N4-SiC계 미립자의 입도분포제어 :
저자명이형직
발행/형태사항: 강릉대학교 공학연구소, 1996
수록잡지명공학 연구소 논문집(강릉대) : 1996년 제4집
페이지21-30

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1 삼성캠퍼스/연속간행물실(2층)/ 530.05 구독중단 1997년 제5집 권호정보

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