대구한의대학교 향산도서관

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Co-sputtered HfO₂-AI₂O₃을 게이트 절연막으로 적용한 IZO 기반 Oxide-TFT 소자의 성능 향상: / 손희근 양정일 조동규 우상현 이동희 이문석 / 대한전자공학회 / 전자공학회논문지 - SD / 2011 /
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