대구한의대학교 향산도서관

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Ge 기판 위에 Hfo₂게이트 산화물의 원자층 증착 중 In Situ 질소 혼입에 의한 전기적 특성 변화: / 김우희 김범수 김형준 / 한국진공학회 / 韓國眞空學會誌 / 2010 /
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