대구한의대학교 향산도서관

선택목록저장

검색간략리스트

저널기사
Improvement of Thermal Stability of Nickel Silicide Using Co-sputtering of Ni and Ti for Nano-Scale CMOS Technology : / Li,Meng; 오성권 신종식 이히덕 / Institute of Electronics Engineers of Korea / Journal of Semiconductor Technology and Science / 2013 /
항목 :