대구한의대학교 향산도서관

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SiH₄/Ar/N₂O과 SiH₄/N₂/N₂O 혼합 가스의 Plasma CVD에 의해 성장한 산화막(SiO₂)의 특성 / 안명환 서문석 윤원주 / 한국물리학회 / 응용 물리 / 1995 /
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