대구한의대학교 향산도서관

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Characteristics of Hafnium-Aluminum-Oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Depositon with Various Aluminum Compositions: / 고재형 이장희 김석훈 김영도 전현태 김덕수 김양도 / 한국물리학회 / Journal of the Korean Physical Society / 2005 /
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