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1.
서명
CMP(Chemical Mechanical Polishing) characteristics of langasite single crystals for SAW filter applications  미리보기
저자
장민철 주경 여건호
출판사
International Organization for Ceramic Processing
청구기호
Journal of Ceramic Processing Research
출판년
2000
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
2.
서명
슬러리와 패드변화에 따른 텅스텐 플러그 CMP 공정의 최적화  미리보기
저자
김상용 서용진 이우선
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
2000
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
3.
서명
실리콘 웨이퍼위에 증착된 실리케이트 산화막의 CMP슬러리 오염 특성  미리보기
저자
김상용 서용진 이우선
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
2000
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
4.
서명
Post-CMP cleaning for metallic contaminant removal by using a remote plasma and UV/Ozone  미리보기
저자
임종민 전부용 이창무
출판사
한국물리학회
청구기호
Journal of the Korean Physical Society
출판년
2000
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
5.
서명
탈이온수의 압력과 정제된 N₂가스가 ILD-CMP 공정에 미치는 영향  미리보기
저자
김상용 이우선 서용진
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
2000
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
1 
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