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21.
서명
CMP 폐액으 고액분리에서 응집제의 영향에 관한 연구
저자
홍성호 오석환
출판사
대한상하수도학회
청구기호
상하수도 학회지
출판년
2002
자료유형
저널기사
소장처
22.
서명
CMP연마에 의한 실리콘산화막의 표면특성
저자
이현수 임성훈 김민기 한병성
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
1999
자료유형
저널기사
소장처
23.
서명
CMP 패드 컨디셔닝 온도에 따른 산화막의 연마특성:
저자
최권우 김남훈 서용진 이우선
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
2005
자료유형
저널기사
소장처
24.
서명
텅스텐 CMP에서 산화제 영향에 관한 연구:
저자
박범영 이현섭 박기현 정석훈 서헌덕 정해도 김호윤 김형재
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
2005
자료유형
저널기사
소장처
25.
서명
CMP 공정에 기인하는 소자특성의 열화를 방지하기 위한 PMD 구조에 대한 연구
저자
서용진 김상용
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
1999
자료유형
저널기사
소장처
26.
서명
VLSI 제작에서 텅스텐 CMP 공정의 최적화
저자
이우선 정헌상 박정기
출판사
조선대학교 에너지.자원 신기술연구소
청구기호
에너지 자원 신기술연구소 논문지(조선대)
출판년
2001
자료유형
저널기사
소장처
27.
서명
슬러리와 패드변화에 따른 텅스텐 플러그 CMP 공정의 최적화
저자
김상용 서용진 이우선
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
2000
자료유형
저널기사
소장처
28.
서명
실리카 슬러리의 에이징 효과 및 산화막 CMP 특성:
저자
이우선 고필주 이영식 서용진 홍광준
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
2004
자료유형
저널기사
소장처
29.
서명
CMP 결과에 영향을 미치는 마찰 특성에 관한 연구:
저자
박범영 이현섭 김형재 서현덕 김구연 정해도
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
2004
자료유형
저널기사
소장처
30.
서명
산화제 첨가에 따른 WO₃ 박막의 CMP 편탄화 특성:
저자
이우선 고필주 김남훈 서용진
출판사
한국전기전자재료학회
청구기호
전기 전자 재료 학회 논문지
출판년
2005
자료유형
저널기사
소장처
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