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1.
서명
Faraday cage를 이용한 plasma etching 분석 기술:  미리보기
저자
문상흡
출판사
한국과학재단
청구기호
우수 연구성과 사례집
출판년
2004
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
2.
서명
Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of SiC Single Crystals Using NF~3-Based Gas Mixtures:  미리보기
저자
출판사
Institute of Electrical and Electronics Engineers
청구기호
Journal of Electronic Materials
출판년
2003
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
3.
서명
New Plasma Chemistries for Etching III-V Compound Semiconductors: Bl~3 and BBr~3:  미리보기
저자
Maeda, T.;Cho, H.;Hong, J.;
출판사
Institute of Electrical and Electronics Engineers
청구기호
Journal of Electronic Materials
출판년
1999
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
4.
서명
Plasma Chemistries for Dry Etching of NiFe and NiFeCo:  미리보기
저자
Jung, K. B.;Hong, J.;Cho, H.;
출판사
Institute of Electrical and Electronics Engineers
청구기호
Journal of Electronic Materials
출판년
1998
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
5.
서명
Comparison of inductively coupled plasma chemistries for dry etching of group Ⅲ-nitrides  미리보기
저자
HCho JKKim SJPearton
출판사
International Organization for Ceramic Processing
청구기호
Journal of Ceramic Processing Research
출판년
2001
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
6.
서명
Plasma etching characteristics of Ge-B-P doped SiO₂ film for waveguide fabrication:  미리보기
저자
신동욱 오재호
출판사
International Organization for Ceramic Processing
청구기호
Journal of Ceramic Processing Research
출판년
2005
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
7.
서명
High selectivity plasma etching of InN over GaN:  미리보기
저자
Cho, Hyun ;Hong, J. ;Maeda, T. ;
출판사
Institute of Electrical and Electronics Engineers
청구기호
Journal of Electronic Materials
출판년
1998
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
8.
서명
Hydrogen etching for semiconductor materials in plasma doping experiments:  미리보기
저자
Qin, Shu;Bernstein, James D.;Chan, Chung;
출판사
Institute of Electrical and Electronics Engineers
청구기호
Journal of Electronic Materials
출판년
1996
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
9.
서명
Inductively Coupled Plasma Etching of HgCdTe:  미리보기
저자
Smith, E. P. G.;Gleason, J. K.;Pham, L. T.;
출판사
Institute of Electrical and Electronics Engineers
청구기호
Journal of Electronic Materials
출판년
2003
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
10.
서명
Inductively coupled plasma etching of Ⅲ-N layers by using a Cl₂/N₂ Plasma:  미리보기
저자
김선운 이규한 남승재
출판사
한국물리학회
청구기호
Journal of the Korean Physical Society
출판년
2002
자료유형
NotFound 저널기사
소장처
 
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