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Export to Refworks부가기능
새로운 ICP장치를 이용한 고온 초전도체의 Dry Etching과 기종의 Wet Etching 기술과의 비교
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| No. | 소장처 | 소장사항 | 청구기호 | 구독 | 최근입수호 | 권호·제본정보 보기 |
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| 1 | 삼성캠퍼스/연속간행물실(2층)/ | 560.5 | 구독중단 | 2007년 02월 제20권 2호 |
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| No. | 소장처 | 소장사항 | 청구기호 | 구독 | 최근입수호 | 권호·제본정보 보기 |
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| 1 | 삼성캠퍼스/연속간행물실(2층)/ | 560.5 | 구독중단 | 2007년 02월 제20권 2호 |
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